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Modelling and engineering of stress based controlled oxidation effects for silicon nanostructure patterning.
Han, Xiang-Lei; Larrieu, Guilhem; Krzeminski, Christophe.
Afiliação
  • Han XL; IEMN-UMR CNRS 8520, F-59652 Villeneuve d'Ascq, France.
Nanotechnology ; 24(49): 495301, 2013 Dec 13.
Article em En | MEDLINE | ID: mdl-24231577

Texto completo: 1 Coleções: 01-internacional Base de dados: MEDLINE Idioma: En Ano de publicação: 2013 Tipo de documento: Article

Texto completo: 1 Coleções: 01-internacional Base de dados: MEDLINE Idioma: En Ano de publicação: 2013 Tipo de documento: Article