A Polyurethane-Based Positive Photoresist. | Macromol Rapid Commun;2014 Sep 15. | MEDLINE

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A Polyurethane-Based Positive Photoresist.

García-Fernández, Luis; Specht, Alexandre; Del Campo, Aránzazu.

Afiliação

García-Fernández L; Max-Planck-Institut für Polymerforschung, Ackermannweg 10, 55128, Mainz, Germany.

Macromol Rapid Commun ; 2014 Sep 15.

Article em En | MEDLINE | ID: mdl-25220363

Palavras-chave

photocleavable groups; photodegradable polymers; photoresists; photoresponsive polyurethanes

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Texto completo: 1 Coleções: 01-internacional Base de dados: MEDLINE Idioma: En Ano de publicação: 2014 Tipo de documento: Article

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