Correction: Atomic layer deposition of Cu(i) oxide films using Cu(ii) bis(dimethylamino-2-propoxide) and water. | Dalton Trans;46(18): 6128, 2017 05 09. | MEDLINE

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Correction: Atomic layer deposition of Cu(i) oxide films using Cu(ii) bis(dimethylamino-2-propoxide) and water.

Avila, J R; Peters, A W; Li, Zhanyong; Ortuño, M A; Martinson, A B F; Cramer, C J; Hupp, J T; Farha, O K.

Afiliação

Avila JR; Department of Chemistry, Northwestern University, 2145 Sheridan Road, Evanston, Illinois 60208, USA. o-farha@northwestern.edu.

Dalton Trans ; 46(18): 6128, 2017 05 09.

Article em En | MEDLINE | ID: mdl-28452387

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Texto completo: 1 Coleções: 01-internacional Base de dados: MEDLINE Idioma: En Ano de publicação: 2017 Tipo de documento: Article

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