Preparation and characterization of ferroelectric Hf<sub>0.5</sub>Zr<sub>0.5</sub>O<sub>2</sub> thin films grown by reactive sputtering. | Nanotechnology;28(30): 305703, 2017 Jul 28. | MEDLINE

Conteúdo principal 1 Busca 2 Rodapé 3

+A A -A Alto contraste

Biblioteca Virtual em Saúde

Secretaria Municipal da Saúde de São Paulo

português

Localizar descritor de assunto Busca Avançada

Preparation and characterization of ferroelectric Hf_0.5Zr_0.5O₂ thin films grown by reactive sputtering.

Lee, Young Hwan; Kim, Han Joon; Moon, Taehwan; Kim, Keum Do; Hyun, Seung Dam; Park, Hyeon Woo; Lee, Yong Bin; Park, Min Hyuk; Hwang, Cheol Seong.

Afiliação

Lee YH; Department of Materials Science and Engineering, and Inter-university Semiconductor Research Center, Seoul National University, Seoul 151-744, Korea.

Nanotechnology ; 28(30): 305703, 2017 Jul 28.

Article em En | MEDLINE | ID: mdl-28562366

Buscar no Google

Texto completo: 1 Coleções: 01-internacional Base de dados: MEDLINE Idioma: En Ano de publicação: 2017 Tipo de documento: Article

Buscar no Google

Texto completo: 1 Coleções: 01-internacional Base de dados: MEDLINE Idioma: En Ano de publicação: 2017 Tipo de documento: Article