Nitrogen reactive ion etch processes for the selective removal of poly-(4-vinylpyridine) in block copolymer films. | Nanotechnology;29(35): 355302, 2018 Aug 31. | MEDLINE

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Nitrogen reactive ion etch processes for the selective removal of poly-(4-vinylpyridine) in block copolymer films.

Flynn, Shauna P; Bogan, Justin; Lundy, Ross; Khalafalla, Khalafalla E; Shaw, Matthew; Rodriguez, Brian J; Swift, Paul; Daniels, Stephen; O'Connor, Robert; Hughes, Greg; Kelleher, Susan M.

Afiliação

Flynn SP; School of Chemistry, University College Dublin, Belfield, Dublin 4, Ireland. National Centre for Plasma Science and Technology, Dublin City University, Dublin 9, Ireland.

Nanotechnology ; 29(35): 355302, 2018 Aug 31.

Article em En | MEDLINE | ID: mdl-29873635

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Texto completo: 1 Coleções: 01-internacional Base de dados: MEDLINE Idioma: En Ano de publicação: 2018 Tipo de documento: Article

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