Tetracene Ultrathin Film Growth on Hydrogen-Passivated Silicon.

Niederhausen, Jens; MacQueen, Rowan W; Lips, Klaus; Aldahhak, Hazem; Schmidt, Wolf Gero; Gerstmann, Uwe

Niederhausen, Jens; MacQueen, Rowan W; Lips, Klaus; Aldahhak, Hazem; Schmidt, Wolf Gero; Gerstmann, Uwe.

Afiliação

Niederhausen J; Department ASPIN, Helmholtz-Zentrum Berlin für Materialen und Energie GmbH, Berlin, Germany.
MacQueen RW; Department ASPIN, Helmholtz-Zentrum Berlin für Materialen und Energie GmbH, Berlin, Germany.
Lips K; Department ASPIN, Helmholtz-Zentrum Berlin für Materialen und Energie GmbH, Berlin, Germany.
Aldahhak H; Lehrstuhl für Theoretische Materialphysik, Universität Paderborn, 33095 Paderborn, Germany.
Schmidt WG; Lehrstuhl für Theoretische Materialphysik, Universität Paderborn, 33095 Paderborn, Germany.
Gerstmann U; Lehrstuhl für Theoretische Materialphysik, Universität Paderborn, 33095 Paderborn, Germany.

Langmuir ; 36(31): 9099-9113, 2020 Aug 11.

Article em En | MEDLINE | ID: mdl-32659091

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