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Two-Step Resist Deposition of E-Beam Patterned Thick Py Nanostructures for X-ray Microscopy.
Hermosa, Javier; Hierro-Rodríguez, Aurelio; Quirós, Carlos; Vélez, María; Sorrentino, Andrea; Aballe, Lucía; Pereiro, Eva; Ferrer, Salvador; Martín, José I.
Afiliação
  • Hermosa J; Departamento de Física, Universidad de Oviedo, 33007 Oviedo, Spain.
  • Hierro-Rodríguez A; Departamento de Física, Universidad de Oviedo, 33007 Oviedo, Spain.
  • Quirós C; Centro de Investigación en Nanomateriales y Nanotecnología (CINN), CSIC-Universidad de Oviedo, 33940 El Entrego, Principado de Asturias, Spain.
  • Vélez M; Departamento de Física, Universidad de Oviedo, 33007 Oviedo, Spain.
  • Sorrentino A; Centro de Investigación en Nanomateriales y Nanotecnología (CINN), CSIC-Universidad de Oviedo, 33940 El Entrego, Principado de Asturias, Spain.
  • Aballe L; Departamento de Física, Universidad de Oviedo, 33007 Oviedo, Spain.
  • Pereiro E; Centro de Investigación en Nanomateriales y Nanotecnología (CINN), CSIC-Universidad de Oviedo, 33940 El Entrego, Principado de Asturias, Spain.
  • Ferrer S; ALBA Synchrotron, 08290 Cerdanyola del Vallès, Spain.
  • Martín JI; ALBA Synchrotron, 08290 Cerdanyola del Vallès, Spain.
Micromachines (Basel) ; 13(2)2022 Jan 28.
Article em En | MEDLINE | ID: mdl-35208328
Palavras-chave
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Texto completo: 1 Coleções: 01-internacional Base de dados: MEDLINE Idioma: En Ano de publicação: 2022 Tipo de documento: Article
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