Chemical and kinetic insights into the Thermal Decomposition of an Oxide Layer on Si(111) from Millisecond Photoelectron Spectroscopy.

Gallet, J-J; Silly, M G; Kazzi, M El; Bournel, F; Sirotti, F; Rochet, F

Gallet, J-J; Silly, M G; Kazzi, M El; Bournel, F; Sirotti, F; Rochet, F.

Afiliación

Gallet JJ; Sorbonne Universités, UPMC Univ. Paris 06, and CNRS UMR 7614, Laboratoire de Chimie Physique Matière et Rayonnement (LCPMR), F-75005, Paris, France.
Silly MG; Synchrotron SOLEIL, L'Orme des Merisiers, Saint-Aubin, BP 48, F-91192, Gif-sur-Yvette, France.
Kazzi ME; Synchrotron SOLEIL, L'Orme des Merisiers, Saint-Aubin, BP 48, F-91192, Gif-sur-Yvette, France.
Bournel F; Synchrotron SOLEIL, L'Orme des Merisiers, Saint-Aubin, BP 48, F-91192, Gif-sur-Yvette, France.
Sirotti F; Paul Scherrer Institut, 5232, Villigen-PSI, Switzerland.
Rochet F; Sorbonne Universités, UPMC Univ. Paris 06, and CNRS UMR 7614, Laboratoire de Chimie Physique Matière et Rayonnement (LCPMR), F-75005, Paris, France.

Sci Rep ; 7(1): 14257, 2017 10 27.

Article en En | MEDLINE | ID: mdl-29079787

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