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Appl Opt ; 50(9): C19-26, 2011 Mar 20.
Artigo em Inglês | MEDLINE | ID: mdl-21460937

RESUMO

Plasma-assisted electron-beam evaporation leads to changes in the crystallinity, density, and stresses of thin films. A dual-source plasma system provides stress control of large-aperture, high-fluence coatings used in vacuum for substrates 1m in aperture.

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