Microscopy of extreme ultraviolet lithography masks with 13.2 nm tabletop laser illumination. | Opt Lett;34(3): 271-3, 2009 Feb 01. | MEDLINE

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Microscopy of extreme ultraviolet lithography masks with 13.2 nm tabletop laser illumination.

Brizuela, F; Wang, Y; Brewer, C A; Pedaci, F; Chao, W; Anderson, E H; Liu, Y; Goldberg, K A; Naulleau, P; Wachulak, P; Marconi, M C; Attwood, D T; Rocca, J J; Menoni, C S.

Afiliação

Brizuela F; National Science Foundation Engineering Research Center for Extreme Ultraviolet Science and Technology, Colorado State University, Fort Collins, CO 80523, USA. brizuela@engr.colostate.edu

Opt Lett ; 34(3): 271-3, 2009 Feb 01.

Article em En | MEDLINE | ID: mdl-19183628

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Coleções: 01-internacional Base de dados: MEDLINE Idioma: En Revista: Opt Lett Ano de publicação: 2009 Tipo de documento: Article País de afiliação: Estados Unidos País de publicação: Estados Unidos

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