Hafnium carbamates and ureates: new class of precursors for low-temperature growth of HfO2 thin films. | Chem Commun (Camb);(15): 1978-80, 2009 Apr 21. | MEDLINE

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Hafnium carbamates and ureates: new class of precursors for low-temperature growth of HfO2 thin films.

Pothiraja, Ramasamy; Milanov, Andrian P; Barreca, Davide; Gasparotto, Alberto; Becker, Hans-Werner; Winter, Manuela; Fischer, Roland A; Devi, Anjana.

Afiliação

Pothiraja R; Lehrstuhl für Anorganische Chemie II, Inorganic Materials Chemistry Group, Ruhr-University Bochum, D-44780, Bochum, Germany.

Chem Commun (Camb) ; (15): 1978-80, 2009 Apr 21.

Article em En | MEDLINE | ID: mdl-19333463

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Texto completo: 1 Coleções: 01-internacional Base de dados: MEDLINE Idioma: En Revista: Chem Commun (Camb) Assunto da revista: QUIMICA Ano de publicação: 2009 Tipo de documento: Article País de afiliação: Alemanha País de publicação: Reino Unido

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