Variable magnification dual lens electron holography for semiconductor junction profiling and strain mapping. | Ultramicroscopy;124: 117-29, 2013 Jan. | MEDLINE

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Variable magnification dual lens electron holography for semiconductor junction profiling and strain mapping.

Wang, Y Y; Li, J; Domenicucci, A; Bruley, J.

Afiliação

Wang YY; IBM Micro-electronics Division, Zip 40E, Hudson Valley Research Park, 2070 Route 52, Hopewell Junction, NY 12533, USA. wangyy@us.ibm.com

Ultramicroscopy ; 124: 117-29, 2013 Jan.

Article em En | MEDLINE | ID: mdl-23154032

Assuntos

Holografia/instrumentação; Holografia/métodos; Lentes; Elétrons; Semicondutores/instrumentação

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Texto completo: 1 Coleções: 01-internacional Base de dados: MEDLINE Assunto principal: Holografia / Lentes Idioma: En Revista: Ultramicroscopy Ano de publicação: 2013 Tipo de documento: Article País de afiliação: Estados Unidos País de publicação: Holanda

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