Line patterns from cylinder-forming photocleavable block copolymers. | Adv Mater;25(34): 4690-5, 2013 Sep 14. | MEDLINE

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Line patterns from cylinder-forming photocleavable block copolymers.

Gu, Weiyin; Zhao, Hui; Wei, Qingshuo; Coughlin, E Bryan; Theato, Patrick; Russell, Thomas P.

Afiliação

Gu W; Department of Polymer Science and Engineering, 120 Governors Drive, University of Massachusetts, Amherst, MA 01003, USA.

Adv Mater ; 25(34): 4690-5, 2013 Sep 14.

Article em En | MEDLINE | ID: mdl-23868791

Palavras-chave

block copolymers; line patterns; nanotemplates; photocleavable; self-assembly

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Texto completo: 1 Coleções: 01-internacional Base de dados: MEDLINE Idioma: En Revista: Adv Mater Assunto da revista: BIOFISICA / QUIMICA Ano de publicação: 2013 Tipo de documento: Article País de afiliação: Estados Unidos

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