Amorphous sub-nanometre Tb-doped SiO(x)N(y)/SiO2 superlattices for optoelectronics. | Nanotechnology;26(8): 085203, 2015 Feb 27. | MEDLINE

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Amorphous sub-nanometre Tb-doped SiO(x)N(y)/SiO2 superlattices for optoelectronics.

Ramírez, Joan Manel; Wojcik, Jacek; Berencén, Yonder; Ruiz-Caridad, Alícia; Estradé, Sònia; Peiró, Francesca; Mascher, Peter; Garrido, Blas.

Afiliação

Ramírez JM; MIND-IN2UB, Departament d'Electrònica, Universitat de Barcelona, Martí i Franquès 1, E-08028 Barcelona, Spain.

Nanotechnology ; 26(8): 085203, 2015 Feb 27.

Article em En | MEDLINE | ID: mdl-25656362

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Texto completo: 1 Coleções: 01-internacional Base de dados: MEDLINE Tipo de estudo: Prognostic_studies Idioma: En Revista: Nanotechnology Ano de publicação: 2015 Tipo de documento: Article País de afiliação: Espanha País de publicação: Reino Unido

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