In-situ atomic layer deposition of tri-methylaluminum and water on pristine single-crystal (In)GaAs surfaces: electronic and electric structures.
Nanotechnology
; 26(16): 164001, 2015 Apr 24.
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Idioma:
En
Revista:
Nanotechnology
Ano de publicação:
2015
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Taiwan
País de publicação:
Reino Unido