Injection of auxiliary electrons for increasing the plasma density in highly charged and high intensity ion sources.

Odorici, F; Malferrari, L; Montanari, A; Rizzoli, R; Mascali, D; Castro, G; Celona, L; Gammino, S; Neri, L

Odorici, F; Malferrari, L; Montanari, A; Rizzoli, R; Mascali, D; Castro, G; Celona, L; Gammino, S; Neri, L.

Afiliação

Odorici F; INFN-Bologna, Viale B. Pichat, 6/2, 40127 Bologna, Italy.
Malferrari L; INFN-Bologna, Viale B. Pichat, 6/2, 40127 Bologna, Italy.
Montanari A; INFN-Bologna, Viale B. Pichat, 6/2, 40127 Bologna, Italy.
Rizzoli R; INFN-Bologna, Viale B. Pichat, 6/2, 40127 Bologna, Italy.
Mascali D; INFN-Laboratori Nazionali del Sud, Via S. Sofia 62, 95125 Catania, Italy.
Castro G; INFN-Laboratori Nazionali del Sud, Via S. Sofia 62, 95125 Catania, Italy.
Celona L; INFN-Laboratori Nazionali del Sud, Via S. Sofia 62, 95125 Catania, Italy.
Gammino S; INFN-Laboratori Nazionali del Sud, Via S. Sofia 62, 95125 Catania, Italy.
Neri L; INFN-Laboratori Nazionali del Sud, Via S. Sofia 62, 95125 Catania, Italy.

Rev Sci Instrum ; 87(2): 02A740, 2016 Feb.

Article em En | MEDLINE | ID: mdl-26931958

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Texto completo: 1 Coleções: 01-internacional Base de dados: MEDLINE Idioma: En Revista: Rev Sci Instrum Ano de publicação: 2016 Tipo de documento: Article País de afiliação: Itália País de publicação: Estados Unidos

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