Formation and behavior of negative ions in low pressure aniline-containing RF plasmas.

Pattyn, Cedric; Kovacevic, Eva; Strunskus, Thomas; Lecas, Thomas; Berndt, Johannes

Pattyn, Cedric; Kovacevic, Eva; Strunskus, Thomas; Lecas, Thomas; Berndt, Johannes.

Afiliação

Pattyn C; GREMI Université d'Orléans, Polytech'Orleans, PB 6744, 45067, Orleans, Cedex 2, France. cedric.pattyn@univ-orleans.fr.
Kovacevic E; GREMI Université d'Orléans, Polytech'Orleans, PB 6744, 45067, Orleans, Cedex 2, France.
Strunskus T; Lehrstuhl für Materialverbunde, Technische Fakultät, Christian-Albrechts-Universität zu Kiel, Kaiserstraße 2, 24143, Kiel, Germany.
Lecas T; GREMI Université d'Orléans, Polytech'Orleans, PB 6744, 45067, Orleans, Cedex 2, France.
Berndt J; GREMI Université d'Orléans, Polytech'Orleans, PB 6744, 45067, Orleans, Cedex 2, France.

Sci Rep ; 9(1): 10886, 2019 Jul 26.

Article em En | MEDLINE | ID: mdl-31350525

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Texto completo: 1 Coleções: 01-internacional Base de dados: MEDLINE Idioma: En Revista: Sci Rep Ano de publicação: 2019 Tipo de documento: Article País de afiliação: França País de publicação: Reino Unido

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