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Effect of Interfacial Roughness Spin Scattering on the Spin Current Transport in YIG/NiO/Pt Heterostructures.
Jin, Lichuan; Jia, Kancheng; Zhang, Dainan; Liu, Bo; Meng, Hao; Tang, Xiaoli; Zhong, Zhiyong; Zhang, Huaiwu.
Afiliação
  • Jin L; State Key Laboratory of Electronic Thin Films and Integrated Devices , University of Electronic Science and Technology of China , Chengdu , 610054 , China.
  • Jia K; State Key Laboratory of Electronic Thin Films and Integrated Devices , University of Electronic Science and Technology of China , Chengdu , 610054 , China.
  • Zhang D; State Key Laboratory of Electronic Thin Films and Integrated Devices , University of Electronic Science and Technology of China , Chengdu , 610054 , China.
  • Liu B; Zhejiang Hikstor Technology Co., Ltd. , Hangzhou , 310000 , China.
  • Meng H; Zhejiang Hikstor Technology Co., Ltd. , Hangzhou , 310000 , China.
  • Tang X; State Key Laboratory of Electronic Thin Films and Integrated Devices , University of Electronic Science and Technology of China , Chengdu , 610054 , China.
  • Zhong Z; State Key Laboratory of Electronic Thin Films and Integrated Devices , University of Electronic Science and Technology of China , Chengdu , 610054 , China.
  • Zhang H; State Key Laboratory of Electronic Thin Films and Integrated Devices , University of Electronic Science and Technology of China , Chengdu , 610054 , China.
ACS Appl Mater Interfaces ; 11(38): 35458-35467, 2019 Sep 25.
Article em En | MEDLINE | ID: mdl-31483597
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Texto completo: 1 Coleções: 01-internacional Base de dados: MEDLINE Idioma: En Revista: ACS Appl Mater Interfaces Assunto da revista: BIOTECNOLOGIA / ENGENHARIA BIOMEDICA Ano de publicação: 2019 Tipo de documento: Article País de afiliação: China País de publicação: Estados Unidos
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