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Tellurium Surface Doping to Enhance the Structural Stability and Electrochemical Performance of Layered Ni-Rich Cathodes.
Huang, Yan; Liu, Xia; Yu, Ruizhi; Cao, Shuang; Pei, Yong; Luo, Zhigao; Zhao, Qinglan; Chang, Baobao; Wang, Ying; Wang, Xianyou.
Afiliação
  • Zhao Q; Department of Chemistry , The Chinese University of Hong Kong , Shatin N.T. 999077 , Hong Kong , China.
  • Chang B; Key Laboratory of Materilas Processing and Mold, Ministry of Education , Zhengzhou University , Zhengzhou 450000 , China.
  • Wang Y; Department of Chemistry , The Chinese University of Hong Kong , Shatin N.T. 999077 , Hong Kong , China.
ACS Appl Mater Interfaces ; 11(43): 40022-40033, 2019 Oct 30.
Article em En | MEDLINE | ID: mdl-31577125

Texto completo: 1 Coleções: 01-internacional Base de dados: MEDLINE Idioma: En Revista: ACS Appl Mater Interfaces Assunto da revista: BIOTECNOLOGIA / ENGENHARIA BIOMEDICA Ano de publicação: 2019 Tipo de documento: Article País de publicação: Estados Unidos

Texto completo: 1 Coleções: 01-internacional Base de dados: MEDLINE Idioma: En Revista: ACS Appl Mater Interfaces Assunto da revista: BIOTECNOLOGIA / ENGENHARIA BIOMEDICA Ano de publicação: 2019 Tipo de documento: Article País de publicação: Estados Unidos