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Rational Passivation of Sulfur Vacancy Defects in Two-Dimensional Transition Metal Dichalcogenides.
Bretscher, Hope; Li, Zhaojun; Xiao, James; Qiu, Diana Yuan; Refaely-Abramson, Sivan; Alexander-Webber, Jack A; Tanoh, Arelo; Fan, Ye; Delport, Géraud; Williams, Cyan A; Stranks, Samuel D; Hofmann, Stephan; Neaton, Jeffrey B; Louie, Steven G; Rao, Akshay.
Afiliação
  • Bretscher H; University of Cambridge, Cambridge, CB2 1TN, U.K.
  • Li Z; University of Cambridge, Cambridge, CB2 1TN, U.K.
  • Xiao J; Uppsala University, Uppsala, 751 20, Sweden.
  • Qiu DY; University of Cambridge, Cambridge, CB2 1TN, U.K.
  • Refaely-Abramson S; Yale University, New Haven, Connecticut 06520, United States.
  • Alexander-Webber JA; Weizmann Institute of Science, Rehovot, 76100, Israel.
  • Tanoh A; University of Cambridge, Cambridge, CB2 1TN, U.K.
  • Fan Y; University of Cambridge, Cambridge, CB2 1TN, U.K.
  • Delport G; University of Cambridge, Cambridge, CB2 1TN, U.K.
  • Williams CA; University of Cambridge, Cambridge, CB2 1TN, U.K.
  • Stranks SD; University of Cambridge, Cambridge, CB2 1TN, U.K.
  • Hofmann S; University of Cambridge, Cambridge, CB2 1TN, U.K.
  • Neaton JB; University of Cambridge, Cambridge, CB2 1TN, U.K.
  • Louie SG; University of California Berkeley, Berkeley, California 94720, United States.
  • Rao A; Lawrence Berkeley National Laboratory, Berkeley, California 94720, United States.
ACS Nano ; 15(5): 8780-8789, 2021 May 25.
Article em En | MEDLINE | ID: mdl-33983711
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Texto completo: 1 Coleções: 01-internacional Base de dados: MEDLINE Idioma: En Revista: ACS Nano Ano de publicação: 2021 Tipo de documento: Article País de afiliação: Reino Unido País de publicação: Estados Unidos
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