The Deposition and Properties of Titanium Films Prepared by High Power Pulsed Magnetron Sputtering.

Jiang, Quanxin; Ma, Donglin; Li, Yantao; Chen, Changzi

Jiang, Quanxin; Ma, Donglin; Li, Yantao; Chen, Changzi.

Afiliação

Jiang Q; Jingchu University of Technology, Jingmen 448000, China.
Ma D; Chengdu Normal University, Chengdu 611130, China.
Li Y; Mianyang Normal University, Mianyang 621000, China.
Chen C; Jingchu University of Technology, Jingmen 448000, China.

Materials (Basel) ; 16(23)2023 Nov 23.

Article em En | MEDLINE | ID: mdl-38068038

Palavras-chave

Ti film; corrosion resistance; friction and wear resistance; high-power pulsed magnetron sputtering technology (HPPMS/HiPIMS); stress

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Texto completo: 1 Coleções: 01-internacional Base de dados: MEDLINE Idioma: En Revista: Materials (Basel) Ano de publicação: 2023 Tipo de documento: Article País de afiliação: China País de publicação: Suíça

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