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Appl Radiat Isot ; 66(10): 1281-6, 2008 Oct.
Artigo em Inglês | MEDLINE | ID: mdl-18387805

RESUMO

Tellurium electrodeposition on a nickel-coated copper substrate was investigated for production of iodine-124. The electrodeposition experiments were carried out by the alkali plating baths. The optimum conditions of the electrodeposition of tellurium were as follows: 6 g l(-1) tellurium, pH=10, DC current density of ca. 8.55 mA cm(-2) and room temperature.


Assuntos
Cobre/química , Galvanoplastia/métodos , Radioisótopos do Iodo/química , Níquel/química , Compostos Radiofarmacêuticos/síntese química , Telúrio/química , Propriedades de Superfície
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